Система вакуумного магнетронного напыления Система высоковакуумного напыления — это установка для нанесения металлических и диэлектрических тонких плёнок на подложки диаметром до 300 миллиметров. В системе используются магнетронные источники распыления с питанием от радиочастотного, постоянного или импульсного постоянного тока, работающие в одиночном режиме или в режиме совместного осаждения. Модульная структура обеспечивает простоту монтажа, транспортировки и обслуживания. Корпус изготовлен из холоднокатаной стали методом гибки листового металла с напылением покрытия, внутренний каркас — из алюминия, а крышка — из полупрозрачного серого акрила. Экран управления спроектирован в соответствии с эргономическими принципами.

Название проекта : Ultra High Vacuum Sputtering System, Имя дизайнеров : Yong Zhang, Имя клиента : Huaiyin Institute of Technology & Liaoning Petrochemical University.